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技術文章首頁 > 技術文章 > 美國Electropure EDI原理
美國Electropure EDI原理
點擊次數:5064 更新時間:2018-04-02

基本原理

  EDI是利用陰、陽離子膜,采用對稱堆放的形式,在陰、陽離子膜中間夾著陰、陽離子樹脂,水中的離子首先被樹脂捕捉,陰陽離子分別在直流電壓的作用下,向不同的方向遷移,離子通過相應的離子膜而到達膜的另一側,使水得到純化。而同時在電壓梯度的作用下,水會發生電解產生大量H+和OH-,這些H+和OH-對離子膜中間的陰、陽離子交換樹脂不斷地進行了再生。由于EDI不停的進行交換一一再生,使得水的純度越來越高,所以,zui終產生了高純度的超純水。

三股獨立水流

  Electropure EDI模塊將進水流分成了三股獨立的水流:

  1.產水水流(zui高水回收率達99%)

  2.濃水水流(通常5~10%,可以循環回流到RO進水)

  3.極水水流(1%,陽極和陰極的水排放)

  離子選擇性膜

  陰離子選擇性膜可以透過陰離子而不能透過陽離子

  陽離子選擇性膜可以透過陽離子而不能滲透過陰離子

  樹脂離子交換技術

  Electropure EDI從水中去除不想要的離子是通過在淡水室中將它們吸附在離子交換樹脂上,然后將這些離子輸送到濃水室中。在模塊的淡水室中,陰離子交換樹脂釋放出氫氧根離子(OH-)與溶解鹽中的陰離子(如:Cl-)交換。同樣,陽離子交換樹脂釋放出氫離子(H+)與溶解鹽中的陽離子(如:Na+)交換。

  離子遷移

  通過放置在組件兩個末端的陽極(+)和陰極(-)建立一個直流(DC)電場。直流電場牽引或排斥這些吸附的離子,驅動這些被吸附的離子沿著樹脂球的表面移動,然后穿過薄膜進入到濃水室。

  水電解和樹脂再生

  在淡水室中的離子交換樹脂還會發生一個重要現象,在電壓梯度高的特定區域,通過水的電化學“分解”能夠產生大量的H+和OH-離子。這些區域中產生的H+和OH-離子在混合離子交換樹脂中可 以使樹脂和膜連續不斷得到再生,并且不需要添加化學試劑。

  電化學反應產生氣體

  陽極處的氧化反應產生O2、Cl2  

      陰極處的還原反應產生H2  

      Electropure EDI各種離子去除特性

  在EDI除鹽過程中用相同的效率并不能去除所有的離子。這個事實會影響產品水的質量和純度。

  1)首先去除簡單離子

     離子以電荷zui大、質量zui小和樹脂對其吸附能力zui大的去除效率zui高。

     這些典型的離子包括: H+、OH-、Na+、Cl-、Ca2+和SO42(和一些相似的離子)。在EDI模塊的*個區域,相較其它離子,這些離子優先被去除。這些離子的數量直接影響到其它離子的去除。當H+和OH-離子變得平衡后,pH值接近7.0。

     EDI模塊的*個區域被稱為“工作床”。

  2)其次去除中等強度離子和極化離子 (例如,CO2)

     CO2是zui常見的EDI進水組成。CO2有著復雜的化學發應,依據其H+離子當地區域的濃度,被認為是可以適度的離子化:CO2 + H2O = H2CO3 = H+ + HCO3= 2H+ + CO32-當pH值在這個部分接近7.0左右時,大部分CO2以重碳酸鹽(HCO3-)形式存在。重碳酸鹽被陰離子樹脂微弱地吸附,如此仍然不能與“簡單”離子(例如Cl-、和SO42-) 相抗衡。在EDI模塊的第二個區域, CO2 (包括它所有的形式)相較于強度更加微弱的離子優先被去除。EDI進水中CO2和HCO3-的數量強烈影響EDI產品水zui終的電阻率以及二氧化硅和硼的去除效率。

  3)zui后去除強度微弱的離子 (例如:溶解的二氧化硅和硼)

     對于類似二氧化硅分子物質的離子化能力相當微弱,并且難吸附在離子交換樹脂上,使用任何反電離過程都很難將之去除。

     如果已經去除了所有的“簡單”離子,并且去除了所有CO2,EDI模塊就能集中去除電離能力微弱的物質種類。在模塊第三個區域的停留時間非常重要。停留時間越長,去除效率就越高。第三個區域較長的停留時間,需要RO產品水的電導率達到zui小(去除大量“簡單”離子),同時使RO產水中CO2的數量zui少化。而且需要使EDI進水的pH值在7.0~7.5的*范圍,減少H+離子負荷和創造CO2轉變成離子態的條件。EDI模塊的第二個區域和第三個區域被成為“拋光床”。

    EDI進水中不同的離子種類,以及它們的濃度,將直接影響著EDI的工作性能和效率。

 

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